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OWIS 光束處理系統系統導軌 S 25 LL的特性

  • 產品型號：
  • 更新時間：2025-03-30

簡要描述：公司簡介：
這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供的模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。
OWIS 光束處理系統系統導軌 S 25 LL的特性
這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR，我們發展了一種能力。

產品分類：

產品詳情
品牌其他品牌價格區間501-1千
組件類別光學元件應用領域石油,建材/家具,汽車及零部件

OWIS 光束處理系統系統導軌 S 25 LL的特性

S 25 LL特性

系統高度25 mm
適用于公制和英制安裝格柵
抗變形鋁
反射差，黑色陽極氧化
購股權數目
其他長度
其他陽極氧化顏色
系統導軌S25 LL是光束處理系統SYS 25的基本元件。它們的標準長度為25毫米至700毫米。導軌由抗變形鋁制成，精密制造，反射性差，黑色陽極氧化。
SYS 25系統的系統導軌、滑臺和安裝組件可組合成穩定緊湊的光路，光學高度為25 mm。
得益于開槽孔，系統導軌S25 LL可以以幾乎任何角度安裝在光學工作臺上。因此，光學設置所需的可變處理是有保證的。

S 25 LL長度選擇：
長度*選擇變體
長度:25毫米
長度:50毫米
長度:100毫米
長度:200毫米
長度:300毫米
長度:500毫米
長度:700毫米

訂貨號：


12.011.0025
12.011.0050
12.011.0100
12.011.0200
12.011.0300
12.011.0500
12.011.0700

公司簡介：
這就是OWIS所代表的。我們廣泛的光束處理系統、光機械組件以及手動和電動定位器產品組合為您提供的模塊化系統，以實現您在光子學中的應用或實驗室設置。
 
這也適用于真空應用。OVIS真空系列專為高真空（HV）、超高真空（UHV）和真空（XHV）而設計。在 XHV 中，壓力范圍為 10-11MBAR，我們發展了一種能力。
 
產品分類：
光束處理系統
光機械部件
手動定位器
電動定位器

OWIS 光束處理系統系統導軌 S 25 LL的特性

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